Фоторезисты AZ компании Merck Performance Materials (AZ Electronic Materials)
Компания Merck Performance Materials (AZ Electronic Materials) является одной из ведущих среди производителей специальных химических материалов для фотолитографии высокого качества и чистоты.
Немецкая компания Merck KGaA расширила свое подразделение специализированных химических веществ за счет приобретения компании AZ Electronic Materials SA, зарегистрированной в Великобритании.
Продукция компании позволяет производить интегральные микросхемы и плоские дисплеи, входящие в состав широкого спектра электронных устройств и изделий, включая компьютеры, телевизоры с плоскими экранами, телекоммуникационные устройства, изделия промышленного назначения, автомобильной электроники и прочей потребительской и промышленной продукции.
Скачать Техническую информацию о фоторезистах, проявителях и удалителях
Фоторезисты AZ
| Серия | Фоторезист | Толщина пленки, мкм | Проявители | Области применения |
|
Позитивный |
≈ 0,5 ≈ 1,0 - 1,5 ≈ 1,5 - 2,5 |
AZ® 351B AZ® 326 MIF AZ® 726 MIF |
Мокрое химическое травление Высокая адгезия к основанию Чувствителен к g-, h- и i-линиям (320–440 нм) |
|
|
Позитивный |
2,5-5,0 5,0-15,0 |
AZ® 400K AZ® 326 MIF AZ® 726 MIF |
Толстые фоторезисты Мокрое химическое травление Высокая адгезия к основанию Чувствителен к g-, h- и i-линиям (320–440 нм) |
|
|
AZ® IPS-6090 Позитивный |
AZ® IPS-6090 |
30,0-150,0 |
AZ® 326 MIF AZ® 726 MIF |
Ультра толстый фоторезист Высокая вязкость Высокое разрешение и соотношение сторон Электрохимическое осаждение покрытий Cu, Ni, Sn, SnAg, Au |
|
Позитивный |
(520CP) |
5 - 20 |
AZ® 400K AZ® 326 MIF AZ® 726 MIF |
Толстые фоторезисты для нанесения покрытий и травления Низкое оптическое поглощение Высокое соотношение сторон и разрешение Чувствителен к h- и i-линиям (320–410 нм) |
|
AZ® XT Позитивный |
AZ® 12 XT-20PL-10 | 6,0-10,0 |
AZ® 351B AZ® 326 MIF AZ® 726 MIF |
Прочные боковые стенки, высокое разрешение и соотношение сторон Для сухого травления или нанесения покрытия Чувствительность к инфракрасному излучению (320–390 нм) |
|
Позитивный |
AZ® 701 MiR (14 cPs) | 0,8 |
AZ® 351B AZ® 326 MIF AZ® 726 MIF |
Для сухого травления тонких линий Высокое разрешение Высокая термостойкость Чувствителен к g-, h- и i-линиям (320–440 нм) |
|
Позитивный |
AZ® 40 XT-11D | >30 |
AZ® 400K AZ® 326 MIF AZ® 726 MIF |
Ультра толстый фоторезист Высокая вязкость Высокое разрешение и соотношение сторон Для сухого травления или нанесения покрытия Чувствительность к i-линии (330–390 нм) |
|
Негативный |
AZ NLOF2020 AZ nLOF2035 |
1,5 - 3 ≈ 3 - 5 ≈ 6 - 15 |
AZ® 326B AZ® 726 MIF AZ® 826 MIF |
Очень высокая термостабильность Чувствительность к электронно-лучевой литографии Для получения углублённых профилей фоторезиста Чувствителен к i-линии (365 нм) |
|
AZ® nXT Негативный |
AZ 125 nXT-7A AZ 125nXT-10B |
≈ 20 - 100 |
AZ® 326 MIF AZ® 726 MIF AZ® 826 MIF |
Улучшенная адгезия Очень высокая крутизна стенок Высокое соотношение сторон Отсутствие запекания после экспозиции Сухое и мокрое травление или нанесение покрытия |
|
AZ® ECI 3000 Позитивный |
АΖ ECI 3007 АΖ ECI 3012 АΖ ECI 3027 |
1,0-4,0 |
AZ® 351B, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF, AZ® Developer |
Самая передовая серия позитивных резистов Мокрое и сухое химическое травление Высокая адгезия ко всем распространенным материалам подложки Очень высокое разрешение Чувствителен к g-, h- и i-линиям (320–440 нм) |
|
AZ 5200 Позитивный |
AZ 5214 E | 1,0-2,0 |
AZ® 351B, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF |
Обратная (взрывная) Отрицательный наклон боковых стенок Высокая температурная стабильность Высокая термостойкость Чувствителен к h- и i-линиям (320–405 нм) |
| AZ® BARLiTM II | AZ®BARLiTM II 200 | 0,2 мкм | AZ® 300 MIF | Нижнее антибликовое покрытие между фоторезистом и подложкой, для уменьшения отражающей способности |
| AZ AQUATAR-VIII | AZ AQUATAR-VIII-A 30 | 0,3 мкм | Все водные щелочные проявители |
Верхнее антибликовое покрытие Улучшает контрастность изображения Для использования с g- и i-линиями |
Фоторезисты AZ
| Название | Краткое описание | ||
|
Фоторезист AZ® 10XT
|
Жидкий позитивный фоторезист повышенной толщины |
||
|
Фоторезист AZ1505
|
Универсальный позитивный фоторезист, обладающий превосходной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ® 40XT-11D
|
Жидкий позитивный фоторезист повышенной толщины с химическим усилением |
||
|
Фоторезист AZ1512 HS
|
Универсальный позитивный фоторезист, обладающий превосходной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ® MIR 701
|
Жидкий позитивный фоторезист общего назначения с высоким разрешением |
||
|
Фоторезист AZ1518
|
Универсальный позитивный фоторезист, обладающий превосходной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ® nLOF™ 2000
|
Жидкий негативный фоторезист, разработан для упрощения сложных процессов переворота изображений и для многослойной взрывной литографии. |
||
|
Фоторезист AZ1514 H
|
Универсальный позитивный фоторезист, обладающий превосходной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ 4533
|
Позитивный толстопленочный фоторезист, обладающий отличной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ 4562
|
Позитивный толстопленочный фоторезист, обладающий отличной адгезией к подложке |
||
|
Фоторезист AZ 5214E
|
Позитивный фоторезист с возможностью обратимости изображения |
||
