» ELTM.ru » Продукция » Фоторезист » Фоторезист сухой пленочный » Фоторезисты ALPHO

Фоторезисты ALPHO LIP600F компании NICHIGO-MORTON CO., LTD

(в сотрудничестве с корпорацией Eternal Materials Co., Ltd)

ALPHO LIP600F — это сухие пленочные фоторезисты водо-щелочного проявления, которые наиболее подходит для нанесения изображений на печатные платы высокой плотности. Он применяется в установках прямого экспонирования i, h-line. с длиной волны 365- 405 нм.

Благодаря своей высокой разрешающей способности и хорошей адгезией к печатным платам, пленочный фоторезист серии ALPHO LIP600F существенно повышает производительность и качество изготовленных печатных плат.

А за счет низкого уровня образования накипи уменьшается загрязнение проявочного раствора.

Модель

Толщина фотослоя, мкм

Область применения

Особенности процесса

ALPHO LIP630F

ALPHO LIP640F

ALPHO LIP650F

Скачать Технологический паспорт

УФ экспонирование
Прямое экспонирование
Кислотное и щелочное травление
Металлизация (Cu, Sn, SnPb)

Это высокочувствительный фоторезист
Отличная устойчивость к кислотному и щелочному травлению
Отличная адгезия к поверхности
Отличное разрешение линий
Низкая энергия воздействия
Благодаря своей гибкости и прочности, обеспечивает надежную перекрываемость отверстий
Благодаря низкому образованию накипи предотвращает загрязнение проявочного раствора

Фоторезисты ALPHO


Название	Краткое описание
ALPHO LIP630F	Негативный, водопроявляемый сухой плёночный фоторезист (30 мкм)
ALPHO LIP650F	Негативный, водопроявляемый сухой плёночный фоторезист (50 мкм)
ALPHO LIP640F	Негативный, водопроявляемый сухой плёночный фоторезист (40 мкм)