» ELTM.ru » Продукция » Фоторезист » Фоторезист жидкий » Фоторезисты Dow Chemical и DuPont

Фоторезисты MICROPOSIT, MEGAPOSIT компании DuPont и Dow Chemical Company

В 2017 году произошло объединение компаниЙ Dow Chemical (Dow Inc) и DuPont.

Компании DuPont и Dow Chemical предлагают надежную, проверенную в производстве линейку фоторезистов, которые отвечают требованиям различных процессов литографии с длинами волн от 365 нм до 13,5 нм.

Скачать Презентацию фоторезистов Dow

Серия	Фоторезист	Толщина, мкм	Проявители	Средства удаления	Длина волны экспонирования	Области применения
MICROPOSIT S 1800G	S1805G S1811G S1813G S1818G S1822G	0,7-2,8	MF™-319 MICROPOSIT MF™-321	Microposit remover 1165	i-, g-линии	Общие рекомендации по фоторезистам для изготовления усовершенствованных микросхем
MICROPOSIT S 1800G2	S1805G2 S1811G2 S1813G2 S1818G2	0,7-2,8	MF™-319 MICROPOSIT MF™-321	Microposit remover 1165	i-, g-линии	Общие рекомендации по фоторезистам для изготовления усовершенствованных микросхем
MEGAPOSIT SPR 220	SPR220-1,2 SPR220-1,5 SPR220-3,0 SPR220-4,5 SPR220-7,0	1,2-7,0	MF-20A, MF-CD-26	Microposit remover 1165	i-, g-линии	Фоторезисты общего назначения с отличной адгезией и характеристиками нанесения покрытий для MEMS и процессов с ударными деформациями Области применения.: Cu, Au, NiFe
MEGAPOSIT SPR700	SPR-1,0 SPR-1,2 SPR-1,8	1,0-1,8	MF-701 0.26N, 0.21N	Microposit remover 1165	i-, g-линии	Многоволновые фоторезисты оптимизированы для обеспечения высоких температур обработки и производительности при превосходной термостойкости
MEGAPOSIT SPR 955	SPR-955-0,7 SPR-955-0,9 SPR-955-1,1 SPR-955-1,4 SPR-955-1,8 SPR-955-2,1	0,7-2,1	MF-CD-26, 0.24-0.26N	Microposit remover 1165	i-линии	Фоторезист общего назначения с высокой производительностью для интерфейсных и серверных процессов 0,35 мкм
EPIC2135	EPIC2135-0,26 EPIC2135-0,32	0,26-0,32	MF-26A	Microposit remover 1165	90, 130, 180 нм Позитив; технологий «65 нм» и «90 нм»	Разработанный для технологий «65 нм» и «90 нм»,для использования в производстве полупроводниковых приборов.
UV5	UV5-0.6	0,6	MF-20A MF-CD-26, 0.26N	Microposit remover 1165	Длина волны экспонирования ГУФ (глубокого ультрафиолета)	Для обеспечения изображения вертикального профиля изолированных и полуплотных элементов
ULTRA-i 123	ULTRA-i 123-0,8	0,8	0.26N MF CD-26	Microposit remover 1165	Длина волны 250 нм i-Line	Общего назначения Оптимизирован для антибликового покрытия.