Выбор фоторезиста для производства печатных плат

Выбор того или иного фоторезиста определяется требованиями, предъявляемыми к технологическому процессу и изделию в целом. Различают негативные и позитивные, жидкие и твердые фоторезисты.

Негативные фоторезисты — это синтетические высокомолекулярные соединения или композиции, молекулы которых под действием поглощающего излучения образуют разветвленные структуры, вследствие чего становятся устойчивыми к воздействию растворителей.

Позитивные фоторезисты — при облучении разрушаются и при проявлении удаляются с экспонированных участков.

Жидкие фоторезисты представляют собой раствор светочувствительного полимера, который наносится различными методами (центрифугирование, окунание) на подложку для получения защитной пленки.

Комбинированная пленка, у которой негативный или позитивный светочувствительный слой толщиной 10–40 мкм находятся между защитными пленками из полиэтилена и полиэфира называют твердым или пленочным фоторезистом.

В настоящее время промышленность ряда стран мира выпускает большой ассортимент фоторезистов, отличающихся по своим свойствам (светочувствительности, разрешающей способности, химической стойкости и др.).

Наиболее распространенные в нашей стране фоторезисты: Riston DuPont (США), Laminar (Тайвань), Кolon Accuimage (Корея).

Компания   Micro Resist Technology GmbH, Германия  является лидером в разработке и производстве фоторезистов, полимеров и фотополимеров для микро - и наноэлектроники в новейших технологиях сегодняшнего дня и рынках роста завтрашнего дня.

Компания AZ-Electronic Materials, Германия предлагает позитивные, негативные жидкие и сухие пленочные фоторезисты для субмикронной и нанометровой литографии.

Наша компания имеет возможность поставлять все вышеперечисленные фоторезисты от прямых производителей.