ALPHO LIP650F


ALPHO LIP650F — это негативный, водопроявляемый сухой плёночный фоторезист, который лучше всего подходит для получения изображения внешнего слоя печатных плат.


Используется для кислотного и щелочного травления.


ALPHO LIP650F применяется в установках прямого экспонирования i-line и h-line со стандартными УФ- лампами.

 

Скачать Технологический паспорт

 

ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА:

  • Это высокочувствительный фоторезист;
  • Отличная устойчивость к кислотному и щелочному травлению;
  • Отличная адгезия к поверхности;
  • Отличное разрешение линий;
  • Низкая энергия воздействия;
  • Благодаря своей гибкости и прочности, он обеспечивает надежную перекрываемость отверстий;
  • Благодаря низкому образованию накипи предотвращает загрязнение проявочного раствора.


РАЗМЕРЫ:

• Толщина фотослоя: 50 мкм;
• Ширина рулона: 0,305 м и 0,610 м
Другая ширина рулонов поставляется по запросу.
• Минимальный заказ — 1 коробка (2 рулона).