Фоторезист AZ® MIR 701
AZ® MIR 701 – позитивный фоторезист общего назначения с высоким разрешением для технологических узлов 0,5 мкм и 0,35 мкм.
Превосходная технологическая широта как для поверхностей с линиями/ промежутками, так и с контактными окнами
Скачать Технический паспорт
Преимущества фоторезистa AZ® MIR 701
- Совместимость с MIF и IN проявителем;
- Безопасный растворитель;
- Толщина одного слоя от 0,6 до 2,5 мкм.
Типовой процесс
|
Покрытие
|
AZ® MIR 701; 30 об/мин, на кремниевой подложке, покрытие TEL® Mark8
|
|
Сушка
|
Сушильный шкаф,
90 °C / 90 с
|
|
Экспонирование
|
Установка совмещения ASML / 250 i-line.
Условное освещение NA=0,60 σ = 0,45
|
|
Выдержка после экспонирования
|
По желанию
|
|
Термообработка
|
110 °C /60- 90 с
|
|
Проявление
|
Ванночка, TEL® Mark8 AZ 300MIF в течение 60 с. при 23,0°С
|
|
