NVSP-400
Система физического осаждения из паровой фазы коробчатого типа основана на призматических / цилиндрических вакуумных камерах. Эти системы имеют от 1 до 4 источников распыления. Многослойные тонкие пленки из 4-х различных материалов могут быть изготовлены системой NVSP NANOVAK®
Система распыления может быть адаптирована в соответствии с желаниями пользователя для производства многослойных металлических, оксидных, карбидных или нитридных пленок, таких как Ni, Fe, Au, Zr, Ti, Si, SiO2, ZnO, TiO2, Si3N4, SiC и т. д.
- Полностью автоматическое управление посредством сенсорного экрана в реальном времени
- Призматическая / цилиндрическая вакуумная камера из SS304.
- Переднее смотровое окно и поворотная заслонка
- Стандартные соединения QF, CF, ISO на выбор,
- ВЧ источник питания, 13,6 МГц, 300 - 1200 Вт
- Источник питания постоянного тока 0 - 1000 В, 2000 Вт
- Уровень базового давления 10-8 Торр, уровень вакуума 2x10-6 Торр достигается за 20 минут
- Турбомолекулярный + механический насос, криогенный и сухой насос на выбор
- Система контроля и измерения вакуума с широким диапазоном (1000 - 10-9 Торр)
- Блок вращения образца 2-30 об / мин
- Устройство плазменной очистки образцов, очистка высокочастотной плазмой посредством высокочастотного смещения образцов.
- Автоматический запуск и остановка, водяное охлаждение с обратной связью
- Двухканальный прецизионный блок измерения толщины
- 1–4 комплекта источников магнетронного распыления постоянного / радиочастотного излучения (1 дюйм, 2 дюйма, 3 дюйма, 4 дюйма)
- Дроссельный, выпускной и стопорный клапаны, точная установка давления, 1 - 100 мТорр
- Управление с ПК через программу Lab-VIEW для автоматического нанесения покрытия
- Дополнительный емкостной манометр для точного измерения давления плазмы.
- Площадь основания 75x120 см, колеса с возможностью блокировки
|