NVSP-400


Система физического осаждения из паровой фазы коробчатого типа основана на призматических / цилиндрических вакуумных камерах. Эти системы имеют от 1 до 4 источников распыления. Многослойные тонкие пленки из 4-х различных материалов могут быть изготовлены системой NVSP NANOVAK®


Система распыления может быть адаптирована в соответствии с желаниями пользователя для производства многослойных металлических, оксидных, карбидных или нитридных пленок, таких как Ni, Fe, Au, Zr, Ti, Si, SiO2, ZnO, TiO2, Si3N4, SiC и т. д.

  • Полностью автоматическое управление посредством сенсорного экрана в реальном времени
  • Призматическая / цилиндрическая вакуумная камера из SS304.
  • Переднее смотровое окно и поворотная заслонка
  • Стандартные соединения QF, CF, ISO на выбор,
  • ВЧ источник питания, 13,6 МГц, 300 - 1200 Вт
  • Источник питания постоянного тока 0 - 1000 В, 2000 Вт
  • Уровень базового давления 10-8 Торр, уровень вакуума 2x10-6 Торр достигается за 20 минут
  • Турбомолекулярный + механический насос, криогенный и сухой насос на выбор
  • Система контроля и измерения вакуума с широким диапазоном (1000 - 10-9 Торр)
  • Блок вращения образца 2-30 об / мин
  • Устройство плазменной очистки образцов, очистка высокочастотной плазмой посредством высокочастотного смещения образцов.
  • Автоматический запуск и остановка, водяное охлаждение с обратной связью
  • Двухканальный прецизионный блок измерения толщины
  • 1–4 комплекта источников магнетронного распыления постоянного / радиочастотного излучения (1 дюйм, 2 дюйма, 3 дюйма, 4 дюйма)
  • Дроссельный, выпускной и стопорный клапаны, точная установка давления, 1 - 100 мТорр
  • Управление с ПК через программу Lab-VIEW для автоматического нанесения покрытия
  • Дополнительный емкостной манометр для точного измерения давления плазмы.
  • Площадь основания 75x120 см, колеса с возможностью блокировки